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东芝、NEC携手 联合开发45纳米芯片制造工艺


类别:原创 作者:BT熊  时间:2005年11月10日15:21





【文章简介】
日本当地时间本周三,东芝和NEC 电子宣布,它们将联合开发新一代芯片制造工艺..... (251 字)


  日本当地时间本周三,东芝和NEC 电子宣布,它们将联合开发新一代芯片制造工艺,加快芯片工艺开发进程,降低成本。

  东芝和NEC 电子还宣布,它们已经开始就与其它可能的合作相关的问题进行谈判,例如产品的开发和生产等提高投资效率的问题。

  它们在一份联合声明中说,由于半导体制造工艺的发展正在日益复杂、需要更长的时间、成本也更高,联合开发将使企业能够分担成本,加快开发,同时提高系统的性能和质量。

  大多数芯片厂商正在转向0.09微米工艺,0.065 和0.045 微米制造工艺正在开发中。东芝和NEC 电子将联合开发0.045 微米制造工艺。

新闻来源:CNET

 

2005年11月10日15:21 于云南


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